Wooptix, experto en metrología de semiconductores, presenta sus últimos datos sobre WFPI (Wave Front Phase Imaging) en California, el próximo 30 de enero. Con el título, “Estudio de repetibilidad de medidas de forma en oblea de silicio”, la exposición tendrá lugar en Moscone Center de San Francisco, a las 2.10 pm, dentro de la sala 312 (Level 3 South).
La presentación tendrá lugar durante SPIE Photonics West, anunciado como "el evento líder mundial en láseres, óptica biomédica y tecnologías biofotónicas, cuánticas y optoelectrónicas".
En cuanto a la presentación de Wooptix, Jan Olaf, VP Business Development de la empresa, afirma: "Presentamos WFPI como una nueva técnica con alta resolución y un alto recuento de datos adquiridos a muy alta velocidad utilizando un sistema donde la oblea está libre de los efectos de la gravedad y con una repetibilidad muy alta medida según los estándares Semi M49".
Wave Front Phase Imaging (WFPI)
Wooptix presenta Wave Front Phase Imaging (WFPI), una nueva técnica de geometría de oblea que adquiere 16,3 millones de puntos de datos en 12 segundos en una oblea completa de 300 mm, proporcionando una resolución lateral de 65 µm mientras se mantiene la oblea verticalmente.
Hay que tener en cuenta que para que un sistema de forma de oblea funcione en un entorno de fabricación de gran volumen, la repetibilidad es una medida crítica que debe probarse. “Los procesos avanzados de creación de patrones litográficos requieren un mapa detallado de la forma libre y no gravitacional de la oblea, para evitar errores de superposición causados ??por problemas de profundidad de enfoque”, continúa Jan Olaf.
“La planitud de las obleas de silicio utilizadas para fabricar circuitos integrados (CI) se controla con tolerancias estrictas para ayudar a garantizar que toda la oblea sea lo suficientemente plana para el procesamiento litográfico”, finaliza.
SPIE Photonics West
Dentro de SPIE Photonics, se podrán encontrar las siguientes tecnologías destacadas: Láseres y periféricos, componentes de acondicionamiento de haz y dirección, instrumentación de medición y perfilado de haces, cámaras y componentes CCD, componentes, equipos y sistemas de fibra óptica, componentes ópticos y hardware, comunicaciones ópticas, detectores ópticos, imágenes y sensores de alta velocidad, materiales y sustratos ópticos, fuentes y detectores de infrarrojos, componentes electrónicos de imágenes, recubrimientos ópticos, lentes y filtros, sistemas de posicionamiento y soportes, equipos de metrología y pruebas, software para diseño y simulación.
